Логин:
Пароль:
Вход

  • Общая информация
  • Организаторы
  • Организационный комитет
  • Важные даты
  • Место проведения
  • Контактная информация
  • Представление материалов
  • Научные направления
  • Регистрационный взнос
  • Рамочная программа
  • Участники
  • Доклады
  • Регистрация/Вход

нагаёси, хироси

Профессор, Ph.D.

Tokyo National College of Technology
Япония, Tokyo

Доклад

  • нагаёси х.*, Diplas S.**, Walmsley J.C.**, Graff J.S.**, Chirvony V.***, Juan P.***, Ulyashin A.**
    Ultra Fine Silicon Nanowire Growth Using Hydrogen Radical Etching Reaction
    *Tokyo National College of Technology (Tokyo), Япония
    **SINTEF Materials and Chemistry (Oslo), Норвегия
    ***University of Valencia (Valencia), Испания

К списку участников
© 2013-2014, Институт геохимии им. А.П. Виноградова СО РАН, Иркутск