Песков, Шандор Григорьевич
Инженер-технологОАО "НИИМЭ и Микрон"
Россия, Москва
Доклад
- Баранов Г.В.*, Итальянцев А.Г.**, Орлов О.М.***, Песков Ш.Г.****
Особенности радиационно-стимулированной диффузии As в структуре SiO2/Si
*ОАО "Научно исследовательский институт молекулярной электроники" (Москва), Россия
**ОАО "НИИ Молекулярной Электроники" (Москва), Россия
***НИИ МОЛЕКУЛЯРНОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ (Москва Зеленоград), Россия
****ОАО "НИИМЭ и Микрон" (Москва), Россия